光刻机被广泛应用于微电子制造中，是半导体工业必不可少的一部分。
所谓光刻机，就是用来将集成电路原理图上的图案映射到硅片上的设备。
简单地说，就是将原始的电路图样通过电辅助工程设计软件CAD，将其转化为一系列在半导体晶片上刻蚀出所需要图形的光掩膜。制作光掩膜的标准是极高的，只有制造工艺准确到纳米级别，才能确保微处理器的可靠性。
而在当今市场上，全球的光刻机厂商不多，主要有荷兰ASML、日本尼康、佳能、英特尔等公司，他们是几个核心技术的专业制造商。根据不同工艺的要求，光刻机有着不同的分类，比如说2300、4000、5000系列的光刻机是尼康的代表作；飞秒激光光刻机是ASML从ASML公司到全球市场的领军产品等等。
"所有的半导体芯片，从设计、制造到打包测试都需要使用大量的设备，光刻机是半导体制造的一道门槛，对于一个国家而言，不掌握此技术，就相当于半导体工业的"短手"。而在未来，也只有全面掌握微电子的制造技术，才能成为科技强国。
